光學(xué)膜厚儀的薄膜光譜反射系統(tǒng)，可以很簡單快速地獲得薄膜的厚度及n&k，采用r-θ極坐標(biāo)移動平臺，可以在幾秒鐘的時間內(nèi)快速的定位所需測試的點(diǎn)并測試厚度，可隨意選擇一種或極坐標(biāo)形、或方形、或線性的圖形模式，也可以編輯自己需要的測試點(diǎn)。針對不同的晶圓尺寸，盒對盒系統(tǒng)可以很容易的自動轉(zhuǎn)換，匹配當(dāng)前盒子的尺寸。49點(diǎn)的分布圖測量只需耗時約45秒。
光學(xué)膜厚儀的主要特點(diǎn)：
*基片折射率和消光系數(shù)測量；
*薄膜厚度測量，平均值和標(biāo)準(zhǔn)偏差分析；
*薄膜折射率和消光系數(shù)測量；
*適用于不用材質(zhì)和厚度的薄膜、涂層和基片；
*測試數(shù)據(jù)輸出和加載；
*直接Patterned或特征機(jī)構(gòu)的試樣測試；
*可用于實(shí)時在線薄膜厚度、折射率監(jiān)測；
*波長范圍可選；
*系統(tǒng)配備強(qiáng)大的光學(xué)常數(shù)庫和材料數(shù)據(jù)庫，便于測試和數(shù)據(jù)分析。
光學(xué)膜厚儀廣泛應(yīng)用于各種薄膜、涂層光學(xué)常數(shù)和厚度的測量，設(shè)備分為在線和離線兩種工作模式，操作便捷，幾秒鐘內(nèi)即可完成測量和數(shù)據(jù)分析，USB 連接計算機(jī)控制；
薄膜表面或界面的反射光會與從基底的反射光相干涉，干涉的發(fā)生與膜厚及折光系數(shù)等有關(guān)，因此可通過計算得到薄膜的厚度。光干涉法是一種無損、且快速的光學(xué)薄膜厚度測量技術(shù)，我們的薄膜測量系統(tǒng)采用光干涉原理測量薄膜厚度。
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